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热氧化对In0.18Al0.82N/GaN异质结构上Ni/Au肖特基接触反向漏电流的影响
热氧化对In0.18Al0.82N/GaN异质结构上Ni/Au肖特基接触反向漏电流的影响
来源 :第十八届全国半导体物理学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:silvercup
【摘 要】
:
本文通过使用变温电流-电压、变频电容-电压和霍尔测量,系统地研究了热氧化对晶格匹配的In0.18Al0.82N/GaN异质结构上Ni/Au肖特基接触的电学性质的影响。
【作 者】
:
林芳
沈波
卢励吾
许福军
马楠
宋杰
黄呈橙
黄俊
刘新宇
魏珂
【机 构】
:
北京大学物理学院,人工微结构和介观物理国家重点实验室,中国,北京,100871
【出 处】
:
第十八届全国半导体物理学术会议
【发表日期】
:
2011年期
【关键词】
:
热氧化
GaN
异质结构
肖特基接触
晶格匹配
霍尔测量
电压
电学性质
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本文通过使用变温电流-电压、变频电容-电压和霍尔测量,系统地研究了热氧化对晶格匹配的In0.18Al0.82N/GaN异质结构上Ni/Au肖特基接触的电学性质的影响。
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