【摘 要】
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用光电能谱(XPS)、红外光谱(IR)和扫描隧道显微镜(STM),对铜在含NaCl的2-巯基苯并恶唑(MBO)溶液中处理后,其表面所形成的缓蚀膜进行了研究.缓蚀膜的Cu2p3/2能结合能值为932.3
【机 构】
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中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国有重点实验室(沈阳)
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用光电能谱(XPS)、红外光谱(IR)和扫描隧道显微镜(STM),对铜在含NaCl的2-巯基苯并恶唑(MBO)溶液中处理后,其表面所形成的缓蚀膜进行了研究.缓蚀膜的Cu2p3/2能结合能值为932.3eV,在Cu2p1/2之间没有“卫星峰”存在,且俄歇峰CuLMM的结合能为337.6eV,表现了典型的一价铜化合物的特征.且该缓蚀膜的红外光谱与MBO的一价铜的合成化合物的红外谱图相一致.在形成缓蚀膜前后,Nls和S2p的结合能变化显著,表明MBO在铜表面形成致密的三维膜.对MBO缓蚀膜的形成机理进行了分析,解释了在MBO缓蚀膜形成过程中铜腐蚀电位的变化.
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