【摘 要】
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采用射频磁控溅射法制备了LiPON电解质,研究了不同射频溅射功率对其溅射速度、形貌和电导率的影响.结果表明:随着溅射功率的增加,LiPON电解质薄膜的致密性增加;电导率也不断提高.实验部分采用中科院沈科仪生产的JGP-450型磁控溅射沉积系统制备LiPON电解质薄膜.基本步骤为:调节靶基距,将溅射室抽至一定真空度,通入氩氮混合气体,调至所需功率溅射制备LiPON电解质薄膜,溅射时间20h.
【机 构】
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武汉大学,武汉,430000;中国电子科技集团公司第十八研究所化学与物理电源重点实验室,300384
【出 处】
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第31届全国化学与物理电源学术年会
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采用射频磁控溅射法制备了LiPON电解质,研究了不同射频溅射功率对其溅射速度、形貌和电导率的影响.结果表明:随着溅射功率的增加,LiPON电解质薄膜的致密性增加;电导率也不断提高.实验部分采用中科院沈科仪生产的JGP-450型磁控溅射沉积系统制备LiPON电解质薄膜.基本步骤为:调节靶基距,将溅射室抽至一定真空度,通入氩氮混合气体,调至所需功率溅射制备LiPON电解质薄膜,溅射时间20h.
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