【摘 要】
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本文考察了二硅化钼电热材料在N2气氛条件下使用破坏机理.结果表明,在这种N2气氛条件下,二硅化钼材料表面很难生成氧化物保护膜;二硅化钼材料表面发生脱硅反应,生成低硅化物,
【机 构】
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中钢集团洛阳耐火材料研究院,洛阳,471039
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本文考察了二硅化钼电热材料在N2气氛条件下使用破坏机理.结果表明,在这种N2气氛条件下,二硅化钼材料表面很难生成氧化物保护膜;二硅化钼材料表面发生脱硅反应,生成低硅化物,甚至Mo,在表面形成变质层.在频繁的升降温过程中,由于表面变质层与基体的热膨胀系数不同,发生剥落,从而导致二硅化钼材料在这种气氛条件下使用寿命的降低.
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