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利用化学气相沉积法(CVD)在液态铜催化剂[1]上通过引入Ar实现了石墨烯形貌的精确调控，进一步改变Ar和H2的比例，得到了一系列规律变化的石墨烯图案[2]，可控制备了多达20种六重高度对称的单晶石墨烯(Fig 1)。基于实验现象，提出了扩散控制的生长机理并利用动力学蒙特卡罗理论(KMC)进行了初步模拟，理论结果与实验现象可较好吻合。