【摘 要】
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离子束溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点，成为获得高性能薄膜材料的重要手段。对于薄膜的制备，基片的温度是一个重要参数。本文主要从薄膜结构、应力和附着力三个方面总结了基片温度对离子束溅射工艺中薄膜生长的影响，并结合实际情况，介绍了在离子束刻蚀、溅射和磁控溅射镀膜工艺中的一些温度控制方法。在实际操作中，要根据沉淀薄膜的要求和离子束溅射的具体方法及设备，并结合基片本身的结构特点来考虑基片的控温措施及温度
【机 构】
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中国科学院上海技术物理研究所,传感技术国家重点实验室,上海200083
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离子束溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点，成为获得高性能薄膜材料的重要手段。对于薄膜的制备，基片的温度是一个重要参数。本文主要从薄膜结构、应力和附着力三个方面总结了基片温度对离子束溅射工艺中薄膜生长的影响，并结合实际情况，介绍了在离子束刻蚀、溅射和磁控溅射镀膜工艺中的一些温度控制方法。在实际操作中，要根据沉淀薄膜的要求和离子束溅射的具体方法及设备，并结合基片本身的结构特点来考虑基片的控温措施及温度范围。
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