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本文介绍了用真空磁控溅射方法沉积Au-氧化物透明导电复合膜,研究了沉积复合膜过程中真空室温度、电压以及退火处理等因素对复合膜电性能的影响,研究表明复合膜的电阻呈正温度系数,电阻低值对应于适宜的电压,从而对改善复合膜的光学、电学性能以及物理机械性能提供了很好的思路。
成膜参数对Au透明导电复合膜电性能的影响
【摘 要】
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本文介绍了用真空磁控溅射方法沉积Au-氧化物透明导电复合膜,研究了沉积复合膜过程中真空室温度、电压以及退火处理等因素对复合膜电性能的影响,研究表明复合膜的电阻呈正温
【机 构】
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北京航空材料研究院,北京航空材料研究院,北京航空材料研究院 北京 100095 ,北京 100095 ,北京 100095
【出 处】
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真空
【发表日期】
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2004年期
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