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一种新型的干法刻蚀技术——磁增强反应离子刻蚀

来源 :中国电子学会真空电子学分会第十届年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：lzj60

【作 者】

：

赖国燕 

【机 构】

：

市新开达电子公司

【出 处】

：

中国电子学会真空电子学分会第十届年会

【发表日期】

：

1995年期

【关键词】

：

干法刻蚀技术 磁增强 

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