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真空中沿面闪络现象是制约真空设备耐压强度的一个重要因素。本文采用在绝缘子表面溅射金粒子的方法，显著提高了真空闪络电压，并从真空沿面闪络的二次电子崩理论入手，分析并解释了该方法可以提高真空绝缘性能的原因。
表面溅射金粒子对单晶真空闪络的影响
【摘 要】
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真空中沿面闪络现象是制约真空设备耐压强度的一个重要因素。本文采用在绝缘子表面溅射金粒子的方法，显著提高了真空闪络电压，并从真空沿面闪络的二次电子崩理论入手，分析并解释
【机 构】
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西安交通大学 电力设备电气绝缘国家重点实验室，陕西 西安 710049
【出 处】
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第十二届全国电介质物理、材料与应用学术研讨会
【发表日期】
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2008年期
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