新型复合栅结构SONOS存储器的性能研究

来源 :第十五届全国半导体集成电路、硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jswrde
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
  使用新开发SONOS器件模拟器进行SONOS器件的电学特性模拟和评估。模拟器基于基本物理模型,详细考虑了SONOS栅介质层中的载流子隧穿、俘获、复合、发射和载流子堆积过程,并且能够计算拥有复合栅介质的SONOS器件;可以有效地评估及优化SONOS存储器的设计。模拟了采用复合的隧穿介质层和高-k阻挡介质层,来改进SONOS的电学性能。改进的SONOS器件在保持与传统SONOS器件相同保持栉陛的情况下,明显加快了写入和擦除的速度。
其他文献
介绍了真空微电子器件场发射阴极硅阵列的制备。采用半导体集成电路工艺,对硅片进行加工,成功地制备出大面积的场发射阵列;通过对阵列尖端沉积六硼化镧薄膜,改善场发射二极管的发射性能。对薄膜的沉积工艺和性能进行了详细的分析;同时,详细分析了影响薄膜发射的原因。测试结果表明,沉积六硼化镧薄膜后的二极管发射性能具有很强的发射能力。
介绍了一种空芯螺旋叠层型薄膜变压器。采用一个集总电路模型来等效模拟集成化变压器的电路效应,结合硅基IC工艺技术,给出薄膜变压器工艺流程,制备了集成化薄膜变压器样品。测试结果表明:变压器在4.4~14.3GHz的频率范围内能得到大于50%的传输效率,在11.2GHz时,最高可达55.4%。
利用ISE软件模拟了4H-SiC pin光电二极管日盲紫外光探测器电学特性,得出光电流密度在10-7A/μm2与实验结果吻合较好,验证了模型的正确性。另外,模拟了器件尺寸对电流电压曲线的影响,得出在探测器不需使用较大受光面积器件的结论。
分析了不同宽度和高度的部分SOI对导通电阻的贡献,提出了元胞重构法,建立部分SOIVDMOS的导通电阻模型。在A点处于外延层3区时,分析外延层场分布对器件内的电流分布的影响,引入吸引系数k,修正部分埋氧引入而带来场分布二级效应对电阻模型影响。结果表明,考虑二级效应的电阻模型解析懈与数值仿真结果吻合好。
针对“SOI放大器型谱”项目设计中对高压SOI双极型器件交流模型参数的需要,探讨了一种利用商用BSIMPro参数提取程序进行SOI双极型器件交流模型参数的方法。通过对基于体硅的双极型器件G-P模型的修正,有效地提取了SOI双极型器件的电容参数和渡越时间参数;给出了SOI双极型器件交流模型参数的提取结果和提取的RMS误差。
通过对铬硅薄膜电阻变化机理的研究,分析了可能影响薄膜电阻跟踪特性的几个因素:光刻方式、退火处理温度和时间以及激光修调等,最终研制出跟踪特性良好的铬硅薄膜电阻。
提出具有环形阴极的横向高压SOI器件新结构,该结构采用环形阴极,利用电场的曲率效应以提高耐压。作为应用实例,在3μm埋氧20μm顶硅上设计出耐压大于600V SOI LDMOS,与常规结构相比,新结构耐压有6.74%的提升,而导通电阻仅增加2.14%。该结构与常规CD工艺完全兼容,不增加工艺难度。
介绍了在一种互补双极CMOS兼容工艺中通过减压/低温外延增加有效外延层厚度,及采用LDD结构,分别提高BJT和MOSFET耐压特性的工艺与器件优化方案和结果。利用Silvaco TCAD工具,对工艺及器件进行了模拟仿真,并制作出BVDSS=18V~20V的MOS管和BVCEO>12V,fT>4.2GHz的NPN管,有效提高了器件的耐压特性,扩展了该工艺的应用范围。
介绍了双胞10叉指集电极上引出结构的SiGe HBT,其BVCBO和BVCEO分别为11V和6V,Early电压为37v。在Ic=40mA,Vce=4V的条件下,测得其截止频率fT可达22GHz,最高振荡频率可达12.8GHz(未作去嵌入)。
根据Y参数分析的特点,通过对共发射极交流小信号等效电路进行合理的简化,同时考虑到发射极串联电阻的影响,提出了一种新的SiGe HBT基极串联电阻的提取方法。采用这种方法,利用SiGe HBT交流小信号参数的器件模拟结果和实测数据,提取了包括基极串联电阻在内的小信号等效电路模型参数,并据比研究了连接基区横向宽度对基极串联电阻的影响,该方法的有效性也从中得到了验证。