衬底温度可控强脉冲电子束烧蚀沉积LiNbO3薄膜工艺研究

来源 :2004年高能束流加工技术国际研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zcxwlh

【摘要】

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介绍了在不同衬底温度下,用强脉冲电子束在单晶硅(110)衬底上沉积LiNbO3薄膜的工艺过程,以及用脉冲电子束进行薄膜晶化处理的试验结果.使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(X

【作者】

：

文雄伟[1]李路明[1]江兴流[2]韩丽君[2]潭轶平[2]

【机构】

：

清华大学机械系

【出处】

：

2004年高能束流加工技术国际研讨会

【发表日期】

：

2004年期

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介绍了在不同衬底温度下,用强脉冲电子束在单晶硅(110)衬底上沉积LiNbO3薄膜的工艺过程,以及用脉冲电子束进行薄膜晶化处理的试验结果.使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、光电子能谱(XPS)等方法,对薄膜的成份、晶体结构及表面形貌进行分析测试.采用表面轮廓仪测定LN薄膜的膜厚分布均匀性等.

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