Coating nano-Co3O4 film on the polydimethyl-siloxane (PDMS) substrate by PEMOCVD method

来源 :第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Mr_Sunfox
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  In this paper, tricobalt tetraoxide (Co3O4) film built with utra-small particles were deposited on the polydimethyl-siloxane (PDMS) surface by the plasma-enhanced metal-organic chemical vapor deposition technique (PEMOCVD).The crystal structure of Co3O4 was achieved by post-treatment with argon (Ar) and oxygen (O2) plasmas at room temperature.
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利用电感耦合等离子体增强化学气相沉积法(ICP-CVD)直接在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜。主要研究了Ar和H2的稀释效应对薄膜沉积的影响,采用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电子显微镜(SEM)等分析方法对在不同稀释气体比例条件下制备的多晶硅薄膜进行结构、形貌及沉积速率的分析,并讨论了多晶硅薄膜沉积的最适宜条件。
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