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用电子束反应蒸镀法制备的ZnO单晶薄膜的结构和光学特性
用电子束反应蒸镀法制备的ZnO单晶薄膜的结构和光学特性
来源 :华东三省一市第三届真空学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:E200902027
【摘 要】
:
本文利用电子束反应蒸镀技术在Si(001)衬底上低温外延生长了ZnO单晶薄膜,X射线衍射(XRD)分析显示ZnO薄膜具有高度c-轴取向,其衍射峰线宽比磁控溅射所得ZnO薄膜的线宽要小,
【作 者】
:
吴惠桢
徐晓玲
邱东江
何克明
寿翔
【机 构】
:
浙江大学物理系,杭州,浙江,310028
【出 处】
:
华东三省一市第三届真空学术交流会
【发表日期】
:
2000年期
【关键词】
:
电子束反应蒸镀
法制
单晶薄膜
结构
外延生长
蒸镀技术
线宽
射线衍射
磁控溅射
衍射峰
质量
显示
取向
衬底
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本文利用电子束反应蒸镀技术在Si(001)衬底上低温外延生长了ZnO单晶薄膜,X射线衍射(XRD)分析显示ZnO薄膜具有高度c-轴取向,其衍射峰线宽比磁控溅射所得ZnO薄膜的线宽要小,还对高质量ZnO薄膜低温外延生长的机制进行了讨论。
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