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低介电常数材料纳米多孔SiO2特性研究
低介电常数材料纳米多孔SiO2特性研究
来源 :2006年全国首届电磁材料及器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:joycev
【摘 要】
:
本文以正硅酸乙酯为先驱体,采用溶胶凝胶工艺结合旋转涂敷的制膜方法,在硅片和玻璃上制备了具有低介电常数的纳米多孔SiO2薄膜,研究了两种不同的催化方式和退火方式对薄膜性
【作 者】
:
张金娟
李世强
甄聪棉
刘彩霞
【机 构】
:
河北师范大学物理科学与信息工程学院,河北,石家庄,050016河北师范大学物理科学与信息工程学院,河北,石家庄,050016;河北科学大学理学院,河北,石家庄,050018
【出 处】
:
2006年全国首届电磁材料及器件学术会议
【发表日期】
:
2006年10期
【关键词】
:
超大规模集成电路
溶胶凝胶
低介电常数
纳米多孔二氧化硅薄膜
退火方式
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本文以正硅酸乙酯为先驱体,采用溶胶凝胶工艺结合旋转涂敷的制膜方法,在硅片和玻璃上制备了具有低介电常数的纳米多孔SiO2薄膜,研究了两种不同的催化方式和退火方式对薄膜性质的影响。
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