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Cu掺杂的拓扑绝缘体Bi2Se3的结构研究

来源 :第十一届全国扫描隧道显微学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：weiba516898

【作 者】

：

王以林 段文晖 马旭村 薛其坤 蒋烨平 陈牧 李志 徐勇 刘军伟 王立莉 何珂 陈曦 

【机 构】

：

中国科学院物理研究所,北京,100190清华大学物理系,北京,100084中国科学院物理研究所,北京,100190;清华大学物理系,北京,100084

【出 处】

：

第十一届全国扫描隧道显微学学术会议

【发表日期】

：

2010年11期

【关键词】

：

拓扑绝缘体 Bi2Se3 Cu掺杂 STM/STS 第一性原理计算 

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