【摘 要】
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Al2O3薄膜在PECVD SiNx过程后钝化性能会出现下降，降低程度随膜厚的增加而增加；退火可以对PE过程中造成的钝化损失进行修复，mw-PECVD修复所需能量较低，通过短时间退火即可；d-PECVD修复所需能量较高，需要长时间退火；PE过程中造成的界面态上升可以通过退火降低，然而固定负电荷的降低则是由于Al2O3/SiNx叠层的影响，无法完全恢复；经过合适的退火过程，Al2O3/SiNx叠层比
【出 处】
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2018 年第十四届中国太阳级硅及光伏发电研讨会
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Al2O3薄膜在PECVD SiNx过程后钝化性能会出现下降，降低程度随膜厚的增加而增加；退火可以对PE过程中造成的钝化损失进行修复，mw-PECVD修复所需能量较低，通过短时间退火即可；d-PECVD修复所需能量较高，需要长时间退火；PE过程中造成的界面态上升可以通过退火降低，然而固定负电荷的降低则是由于Al2O3/SiNx叠层的影响，无法完全恢复；经过合适的退火过程，Al2O3/SiNx叠层比单Al2O3钝化层展现出更好的钝化性能。
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