磁控溅射沉积用于铯原子频标的Ti掺杂MgO薄膜研究

来源 :第十一届全国表面工程大会暨第八届全国青年表面工程学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zimuogu
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  磁选态铯原子频标的关键器件是电子倍增器.其原理是通过材料的表面二次电子发射将铯离子信号进行放大,进而检出铯束偏转信号.MgO具有较好的二次电子发射能力而被广泛采用.制备MgO薄膜方法很多,包括高温氧化法,蒸发沉积,脉冲激光沉积和金属有机化学气相沉积等.为了提高其二次电子发射能力和降低工作电压,在MgO中掺杂其它元素是被认为是很好的方法.本文研究利用磁控溅射技术沉积Ti掺杂MgO薄膜.采用金属Ti和MgO陶瓷作为溅射靶材,在Ar气氛中磁控共溅射沉积Ti:MgO薄膜.利用XRD测试了薄膜结构,沉积的薄膜为MgO(100)和(110)取向,没有与TiO2相关的衍射峰出现.XPS谱和EDS谱显示了薄膜的掺杂效果.两种方法测试的Ti/Mg比例相一致.SEM显示薄膜为粒径约200-300nm的多晶体构成.沉积了9个Ti掺杂MgO薄膜样品,组装成电子倍增器,测试了电子倍增器性能.电子倍增器的放大倍数与非掺杂的相当.正在进一步优化沉积参数,以制备合适的Ti掺杂MgO二次电子发射薄膜,有效降低倍增器的工作电压.
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