【摘 要】
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采用磁控溅射制备TiNi合金非晶薄膜,通过快速真空退火(升温速率1200K/min和4800K/min)获得了厚度约为90nm纳米晶薄膜.利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和电阻率-
【机 构】
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哈尔滨工业大学材料科学与工程学院哈尔滨150001
【出 处】
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第十一届全国固态相变、凝固及应用学术会议
论文部分内容阅读
采用磁控溅射制备TiNi合金非晶薄膜,通过快速真空退火(升温速率1200K/min和4800K/min)获得了厚度约为90nm纳米晶薄膜.利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和电阻率-温度分析仪等方法,研究了TiNi合金薄膜的微观组织结构及马氏体相变特性.实验结果表明,与常规晶化退火热处理相比,快速退火后TiNi薄膜(020)衍射峰明显宽化,晶粒尺寸为50nm.纳米晶TiNi薄膜相变行为未发生本质变化,仅发生奥氏体至马氏体一步相变.该晶粒尺寸小于最新理论预测TiNi合金发生马氏体相变的临界尺寸.相变温度随Ti含量的升高而先升高后降低,随晶化升温速率的加快而降低,随退火温度的升高逐渐降低.纳米晶马氏体内部为单变体对,呈现(001)复合孪晶关系,残余应力与厚度方向约束条件其形成的主要原因,马氏体变体宽度为2.4nm,小于粗晶TiNi薄膜一个数量级,其有效平衡了变体切变过程中的能量.
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