【摘 要】
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采用电化学辅助沉积(简称电沉积)方法对AZ31B镁合金进行硅烷化处理,借助于动电位极化曲线和电化学阻抗谱等电化学测试手段研究了γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷(KH-570)添加量对膜层质量及耐蚀性能的影响,并比较了利用羟基磷灰石(HA)、铈盐离子(Ce3+)两种改性粒子改良硅烷溶液后所制得膜层的质量及耐蚀性能。结果 表明,AZ31B镁合金经电沉积硅烷处理后,表面生成一层均匀而致密的硅烷透明
【机 构】
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东南大学材料科学与工程学院,南京211189
【出 处】
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第二届中国国际复合材料科技大会 (CCCM-2)
论文部分内容阅读
采用电化学辅助沉积(简称电沉积)方法对AZ31B镁合金进行硅烷化处理,借助于动电位极化曲线和电化学阻抗谱等电化学测试手段研究了γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷(KH-570)添加量对膜层质量及耐蚀性能的影响,并比较了利用羟基磷灰石(HA)、铈盐离子(Ce3+)两种改性粒子改良硅烷溶液后所制得膜层的质量及耐蚀性能。结果 表明,AZ31B镁合金经电沉积硅烷处理后,表面生成一层均匀而致密的硅烷透明膜层,有效地减缓了镁合金的腐蚀行为,促使其自腐蚀电流密度大大降低；在硅烷电沉积处理过程中,KH-570存在最佳添加量,当其添加体积约为8ml时所制备出的硅烷膜层质量最好、耐蚀性能最佳；通过改良硅烷溶液,电沉积制备的硅烷膜层质量进一步提高,Ce3+改良效果更佳。
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