双异质结构GaN HEMT研究进展

来源 :第13届全国MOCVD学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:msn78160
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基于宽禁带氮化镓(GaN)基材料的高电子迁移率晶体管(HEMT)击穿电压高、频率和效率高、输出功率大、抗辐射、耐高温,是理想的微波、毫米波功率器件.随着GaN基微波功率器件的频率从微波到毫米波并逐渐提高,器件的尺寸不断缩小,目前已达到纳米量级[1-2],强场效应、短沟道效应日益突出.
其他文献
研究了采用超高温石墨化法,无需其他任何附加工艺和添加催化剂等,一次性制备品质优良的人造石墨、类石墨增碳剂和高级还原剂等碳材料,并对碳材料进行了化学成分分析,颗粒堆积电阻率测试,XRD物相组成及石墨化程度测试,SEM微观结构形貌表征和拉曼散射晶化程度和晶体缺陷表征,同时还对超高温石墨化法进行了展望。
Ti (C,N)-based cermets were prepared by pressureless sintering using micron-sized TiC and TiN powders as main starting materials and Ni and Co as metal binder.The fracture micrographs of Ti (C,N)-base
In the present work, the giant magnetoimpedance effect has been found in Fe73.5Cu1Nb2V1Si13.5B9 nanocrystalline ribbons.The optimum annealing temperature for obtaining largest GMI is about 550℃.
The structuraland electric properties of GaN nanoribbons (GaNNRs) with both zigzag edge (ZGaNNRs) and armchairedge (AGaNNRs)are studied byusing the first-principles projector augmented wave (PAW)poten
GaN单晶衬底在Ⅲ-Ⅴ族半导体器件方面,具有重大的意义和广阔的应用前景。为了进一步提高功率器件的性能和可靠性,需要采用极低缺陷密度单晶GaN衬底。目前,GaN体单晶的主要生长方法有HVPE、氨热法、高压熔液法和Na Flux法。其中,Na Flux法是一种近热力学平衡条件下的生长方法,生长速率比氨热法快几十倍,而且生长设备相对简单,利于降低生长成本。但是,Na Flux法直接生长不容易获得单晶。将
会议
AlGaN沟道HEMTs以其优异的超高击穿电压特性已在世界范围内引起了广泛关注[1].本文利用MOCVD制备了9组不同结构的AlxGa1-xN/AlyGa1-yN样品(A~I)以及HEMTs,并探究了沟道层Al组分和缓冲层结构对材料结晶质量以及器件性能的影响.
会议
相较于目前常用的Ga极性面氮化物材料,N极性面材料具有极化反转、表面化学活性高等特点,极大拓展了氮化物材料的应用范畴,在微电子、探测器等多个研究领域均表现出独特的优势,是当前国际氮化物界的研究热点.本报告从N极性面氮化物材料基本物理特性出发,介绍了N极性面材料在微电子领域的研究情况和最新进展.
会议
在GaN外延材料中,存在着大量的位错,这些位错对GaN基材料和器件的电学和光学性质有着极大的影响.位错是由于GaN在生长过程中热应力(或其他外力)作用,使GaN中某一部分(沿滑移面)发生滑移,已滑移区与未滑移区的分界线称为位错线.以位错线与其柏格斯矢量的相对取向来区分位错的类型,两者相互垂直叫刃型位错,两者平行的叫螺型位错,否则叫混合位错.
典型的非极性(1(1)00)m面AlGaN/GaN异质结具有布满条形台阶的表/界面显微形貌,条形沿[1120]a轴方向延伸.由于条形台阶内外GaN和AlGaN极化强度的差异,使每个台阶相对的两个侧面上产生极化束缚电荷,从而形成了沿台阶方向延伸的线电荷偶极子.本文对位于m面AlGaN/GaN异质结界面的线电荷偶极子对二维电子气的散射作用进行了理论建模和定量分析.
会议
自组织氧化硅微米球作为选择性生长的掩膜来减少GaN外延层中的穿通位错已经得到证明[1].本文使用变尺寸的亚微米球作为选择性生长的掩膜来减少GaN外延层中的穿通位错.首先由MOCVD在C面蓝宝石衬底上外延1.2微米的GaN,并在GaN上旋涂一层聚苯乙烯.
会议