【摘 要】
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本文以丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵(DAC),丙烯酸钠(SAA),2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(AMPS)作端基改性剂,合成出一系列新型改性聚酰胺-胺两性离子型树状聚合物。采用FTIR,13C NMR对产物分子结构进行了表征,结果显示合成产物为改性聚酰胺-胺两性离子型树状聚合物。在对其热稳定性和特性粘度进行性能测试发现,阴离子端基改性剂以AMPS优于SAA。絮凝性能实验结果表明,合成产物具有一定的絮
【机 构】
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华南理工大学材料科学与工程学院,广州 510640 吉首大学化学化工学院,吉首 416000 华南
【出 处】
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2006年全国博士生学术论坛——材料科学分论坛
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本文以丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵(DAC),丙烯酸钠(SAA),2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(AMPS)作端基改性剂,合成出一系列新型改性聚酰胺-胺两性离子型树状聚合物。采用FTIR,13C NMR对产物分子结构进行了表征,结果显示合成产物为改性聚酰胺-胺两性离子型树状聚合物。在对其热稳定性和特性粘度进行性能测试发现,阴离子端基改性剂以AMPS优于SAA。絮凝性能实验结果表明,合成产物具有一定的絮凝性能,且与聚丙烯酰胺复配效果更好,最佳质量比为1:4。
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本文通过射频反应磁控溅射法获得了HfOxNy栅介电薄膜,利用椭圆偏振法(SE)测量了光子能量在0.75-6.5eV范围内不同退火温度下HfOxNy薄膜的椭偏参数谱图。结果表明,退火温度对薄膜的光学特性有很大影响,折射率和消光系数随退火温度的增加分别增加和降低。文章同时对禁带宽度Eg随退火温度的变化进行了讨论,同时利用X射线光电子谱(XPS)还得到了退火温度对薄膜化学组分的影响。
本文针对通常采用合金化的方法提高NdFeB永磁材料耐腐蚀性时出现磁性能下降的问题,研究了晶界添加Si3N4对NdFeB磁性能和耐腐蚀性的影响。结果表明:添加Si3N4可提高NdFeB磁体的剩磁和最大磁能积,当添加量为0.2wt%时,磁性能达到最大值。此外,添加Si3N4的NdFeB磁体具有更高的腐蚀电位,在极化曲线的阳极部分相同电位条件下,具有较小的极化电流密度,说明添加Si3N4可提高NdFeB
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