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该文介绍等离子体离子注入(PIII)以及PIII在浅结注入、SIMOX和Smartcut以及杂质吸杂工艺中的研究。
等离子体离子注入(PIII)和在集成电路工艺中的应用
【摘 要】
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该文介绍等离子体离子注入(PIII)以及PIII在浅结注入、SIMOX和Smartcut以及杂质吸杂工艺中的研究。
【机 构】
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上海市计量测试技术研究材料室(上海)
【出 处】
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第七届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
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2000年期
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