【摘 要】
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采用静态和动态(辊到辊)两种方式对轧制态Ni-5at.％W合金基带进行再结晶退火处理,通过极图分析的方法对不同退火条件的样品进行了织构评价.结果表明,随再结晶温度的升高,静态与
【机 构】
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西北有色金属研究院,超导材料研究所,西安 710016
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采用静态和动态(辊到辊)两种方式对轧制态Ni-5at.％W合金基带进行再结晶退火处理,通过极图分析的方法对不同退火条件的样品进行了织构评价.结果表明,随再结晶温度的升高,静态与动态再结晶退火方式的基带立方织构含量均先增大后减小,分别在1250℃与1200℃立方织构含量达到最大值99.7％与97.5％,此时,织构锐利度也达到最大,静态再结晶ω扫描与φ扫描的半高宽(FWHM)分别为4.4°与5.4°。动态再结晶ω扫描与φ扫描的FWHM分别为4.8°与5.6°.与静态再结晶相比,动态再结晶由于升温速率快使基带的立方织构含量略低,织构锐利度稍差.
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