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分析了菲涅耳近似模型在接近式光刻模拟中的应用和误差起源,并根据光的标量衍射理论,对菲涅耳近似模型进行了修正,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型;并对这两种模型的模拟结果进行了比较.
接近式光刻的计算机模拟研究
【摘 要】
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分析了菲涅耳近似模型在接近式光刻模拟中的应用和误差起源,并根据光的标量衍射理论,对菲涅耳近似模型进行了修正,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型;并对这两种模型的模拟结
【机 构】
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中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029
【出 处】
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中国微米/纳米第六届学术年会
【发表日期】
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2003年期
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