溶液浓度对电化学技术制备SrWO4薄膜的影响

来源 :第十二届全国电介质物理、材料与应用学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yejing112
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本文采用恒电流电化学沉积技术直接在金属钨片上制备了具有白钨矿结构的钨酸锶(SrWO4)晶态薄膜。利用SEM、XRD等分析测试方法。分析表征了在不同的溶液浓度下、不同生长阶段生长的钨酸锶(SrWO4)晶态薄膜形貌特征及物相结构。研究表明:在不同的溶液浓度下制备的SrWO4晶态薄膜均具有单一的四方相结构;溶液浓度对薄膜的晶粒形貌、致密性和均一性以及最大沉积时间均具有一定的影响。在高溶液浓度条件下产生明显的团簇现象,但是当溶液浓度较低时,离子溶度积较低。以致反应速度缓慢,甚至使得薄膜生长不能正常进行。随着浓度的增加,最大沉积时间不断减少,但当浓度达到0.4 mol/L及以上时,最大沉积时间又有所增加。
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