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带有正脉冲周期的HIPIMS电源-更开放的涂层工艺窗口和更高的沉积速率
【机 构】
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Nano4Energy
【出 处】
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第五届全国工业等离子体会议暨第五届高离化磁控多弧技术研讨会及第二届 PVD 企校合作高层论坛
【发表日期】
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2017年12期
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