论文部分内容阅读
目的：制备二氧化硅纳米,并将十六烷甲基溴化钱(CTAB)包覆在二氧化硅纳米表面形成CTAB@SiO2复合物,同时研究不同条件下修饰后二氧化硅纳米表面电位的变化情况。最后还研究了CTAB@SiO2:复合物对HepG2,U251,Hela的细胞毒性,也探讨了该复合物能否和PCR出的内皮抑素基因结合并保护内皮抑制素基因不被核酶降解。方法：通过微乳法制备了二氧化硅纳米,并利用静电结合作用及疏水键合作用将CTAB包覆在二氧化硅纳米表面。该复合物的细胞毒性则通过MTT检测分析得出。同时,通过琼脂糖凝胶电泳研究了该复合物能否运载DNA及保护DNA不被核酸酶降解。结果：通过微乳法成功制备出了粒径约为100nm的二氧化硅纳米粒,修饰后二氧化硅纳米的zeta电位由负值变为正值,但粒径并未发生明显变化。通过单因素实验发现,CTAB的浓度,溶液的pH值,搅拌时间对修饰后二氧化硅纳米粒的表面电位有很大影响。通过MTT实验发现,CTAB修饰二氧化硅纳米后,能使二氧化硅纳米细胞毒性增大,但也能使CTAB的细胞毒性减小。在HepG2细胞中,SiO2的IC50是458.9μg／mL.而CTAB@SiO2复合物的IC50是259.44μg／mL,在U251细胞中,SiO2的IC50是442.94μg／mL,而CTAB@SiO2复合物的IC50是264.62μg／mL,在Hela细胞中,SiO2的IC50是348.52μg／mL,而CTAB@SiO2纳米复合物的IC50是285.05μg／mL。通过琼脂糖凝胶电泳发现,该复合物不仅能结合DNA,还能保护DNA不被核酸酶降解。结论：CTAB修饰二氧化硅纳米后,二氧化硅纳米的表面电位发生重要改变,同时,修饰后的二氧化硅纳米不仅能和DNA结合,还能保护DNA不被核酶降解,修饰后的二氧化硅纳米适合作为基因转染的非病毒载体。