【摘 要】
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氧化钨是一种具有良好的光催化、光致变色以及电致变色等性质的材料,在光催化剂、气体传感器、智能窗等领域被广泛应用。本文采用不同的制备方法和实验参数,制备了不同结构的WO_3薄膜,并采用X射线衍射仪、金相显微镜、场发射扫描电镜、紫外可见分光光度计以及自制的电学测试装置对薄膜进行了表征和分析,对不同的退火条件对氧化钨薄膜结构、形貌、光学以及电学性能的影响进行了深入研究,并探索了制备出的薄膜的电致变色性能
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氧化钨是一种具有良好的光催化、光致变色以及电致变色等性质的材料,在光催化剂、气体传感器、智能窗等领域被广泛应用。本文采用不同的制备方法和实验参数,制备了不同结构的WO_3薄膜,并采用X射线衍射仪、金相显微镜、场发射扫描电镜、紫外可见分光光度计以及自制的电学测试装置对薄膜进行了表征和分析,对不同的退火条件对氧化钨薄膜结构、形貌、光学以及电学性能的影响进行了深入研究,并探索了制备出的薄膜的电致变色性能。通过离子束溅射沉积与退火处理的方法制备了WO_(3-x)(0≤x<1)薄膜,研究了不同退火参数条件对氧
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