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ZnS、ZnSe和Ge是目前广泛用于8-11．5μm波段的红外窗口和头罩材料，但容易被腐蚀性气体和液体、高速飞行的雨滴、灰尘颗粒、冰雹等的损伤，因此在红外器件的表面覆盖一层硬度大、抗损伤能力强的保护膜，采用DLC膜作为保护膜，就可以同时获得良好的光学性能和抗砂耐蚀性。首先对类金刚石薄膜的研究背景、结构、制备方法、性能、应用、以及生长机理进行了综述；其次介绍溅射技术和薄膜的表征方法；最后采用中频非平衡磁控溅射技术制备含氢类金刚石薄膜（a-C：H），研究了制备中工艺参数如中频电流、基体温度、基体偏压、及进气比例（Ar／CH4）四个参数对类金刚石薄膜结构和性能的影响。采用奥林帕斯金相显微镜观察其光学放大形貌；原子力显微镜观察薄膜的微观表面形貌；激光拉曼光谱分析薄膜的成分组成；MTS纳米压痕仪测量薄膜的纳米硬度和弹性模量；FTIR分析薄膜的C-H基团。研究结果表明：（1）改变中频电流的大小，选择了150mA、200mA和250mA。得出膜的形貌、纳米硬度与中频电流的变化不是成简单的线性关系。中频电流为200mA时，制备的薄膜表面颗粒均匀，空洞较少，含氢量少，纳米硬度较高。（2）改变基体温度的高低，选择了45℃、80℃、120℃和150℃。温度为80℃时，制备的薄膜表面粗糙度低，sp3含量高，而在自然升温45℃左右纳米硬度最高。（3）改变基体偏压的高低，选择了0-400V范围变化。偏压为-100V时，制备的薄膜表面颗粒均匀，Raman谱的定性分析-100V时sp3含量可能较高。（4）改变进气比例。比较了它们的光学形貌、AFM、Raman、纳米硬度和FTIR，拉曼分析的结果和纳米硬度测量结果不一致，根据我们沉积薄膜的用途，在进气比例为3×10-3／3×10-3Torr的纳米硬度高，相对来说这种进气比例下制备的薄膜能抗砂尘冲刷。中频非平衡磁控反应溅射制备的含氢的类金刚石薄膜的sp3含量不够高，不能很好的抗击砂尘冲刷；耐腐蚀性测试性能良好。针对本课题的应用背景，还需考虑在试验设备条件允许下，进一步提高薄膜表面的致密性和纳米硬度。