本文首先基于电子跃迁模型和实际镀膜工艺对材料法拉第频谱进行计算，确定近紫外法拉第磁光增强材料，给出最佳配方范围。其次对用热分解法制备Bi、Al替石榴石型多层磁光薄膜的工艺进行了系统研究，制得了2英寸、3.5英寸的大面积多层纳米磁光薄膜。与此同时，对多晶导致的晶界散射和记录畸变形而引入噪音的问题从理论和实验两方面着手解决，采用快速循环退火和掺铷的方法研究，结果均获得良好的细化晶粒的效果，基本解决了晶界噪音问题。最后还就Bi、Al替石榴石型磁光薄膜的记录畴的近似模拟、纳米晶化机理、磁光性能测试方面进行了大量工作，得到了一些有益和新颖的结果如下：1．利用一般磁光薄膜记录畴模拟公式，对石榴石型磁光薄膜的记录 畴进行近似模拟；并对记录点边界的规则性与材料磁特性和热磁 特性之间的关系进行了研究。2．利用激发态能级劈裂和基态—激发态能级双劈裂的电子跃迁模型 阐述法拉第效应的起源，并根据激发态能级劈裂电子跃迁模型计 算法拉第频谱，证实了Bi替石榴石材料的蓝绿和近紫外波段磁光 增强效应，由此提出了Bi代DyIG材料最佳配方范围。3．利用材料的工艺特点，用耦合法拉第模型计算多层膜的法拉第频 谱，所得结果再次证实了材料的蓝绿和近紫外波段的磁光增强效 应。 ＄R一4．解决了材料合成中的稀土氧化物难溶、胶液团聚、晶化温度控制 等工艺难点，改造了制备工艺设备，设计了特殊的真空稳定基片 快速旋镀转台，首次成功地制备了2英寸、3．5英寸大面积磁光多 层薄膜。5．研制出计算机控制的高稳定、高精度磁光测试系统，其技术创新 点是：采用实时除运算消除激光光源波动的所造成的干扰，并用 高线性度的法拉第调制器进行校准。利用该系统对大量实验样品 进行T8f、Hc和TC的测试。6．对多种使材料纳米晶化的工艺方法进行研究。首次采用了快速循 环退火纳米晶化处理，并就纳米晶化机理进行了分析，成功地把 晶粒细化到50urn以下；同时还采用掺Rb和双层膜交叠的工艺方 法首次实现大尺寸臼．5英寸）纳米晶 Bi代 DyIG磁光膜，掺 Rb 簿膜的晶粒也细化到50run以下，TEM明显显示晶粒较均匀。7．对大尺寸（3．5英寸）溅射和热分解磁光薄膜进行了均匀性研究， 从膜面不同点成分测试结果看，误差在士 4％之间。厚度不均匀问 题是存在的，通过对旋覆工艺的理论和大量实验的研究，己基本 解决了厚度不均匀性。