聚焦离子束/电子束技术在三维纳米器件加工中的应用

来源 :中国科学院大学(中国科学院物理研究所) | 被引量 : 8次 | 上传用户:gongshan
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聚焦离子束/电子束(FIB/FEB)技术作为纳米结构与器件加工过程中实现沉积/刻蚀/辐照等功能的重要手段,其加工的结构与器件尺寸范围可从微米到亚微米甚至纳米级别,具有灵活、可控、精度高的特点和三维微纳米结构与器件加工的能力,可广泛应用于构建纳米电子器件、光学器件、光电子器件、流体器件以及生物器件等,显示出巨大的应用潜力。此外,随着三维纳米电子器件和第三代宽禁带半导体材料的发展,将宽禁带半导体加工成三维微纳米结构,并应用在三维微纳米电子器件已成为新的发展方向,有利于提高集成度、弥补当前硅基半导体在光电子和高频高功率器件上的不足。本论文研究了FIB/FEB沉积、刻蚀、辐照等技术应用于三维纳米器件的加工方法,包括三维金刚石紫外探测器和三维环栅场效应晶体管的加工,以及三维纳米器件中作为空间电极连线的纳米线的力学性能探索,显示出FIB/FEB技术在三维纳米器件加工中精度高、可控性强的优势。首先,系统地研究了聚焦电子束诱导沉积(FEBID)技术制备的铂(Pt)纳米线的电致振动现象,首次确定出FEBID制备的Pt纳米线的杨氏模量和密度,并研究了Pt纳米线的杨氏模量随尺寸的变化规律,最后利用Pt纳米线小质量、高杨氏模量的优点,将其作为基础共振单元,研制出高灵敏度的质量探测器。其次,利用FIB位图叠加方法刻蚀纳米金刚石膜,加工出纳米金刚石锥,在双探针扫描电镜场发射系统中研究了金刚石锥的场发射性能以及紫外光照射的影响。结果表明较高位图数刻蚀的纳米金刚石锥,由于具有更高的sp~2碳,场发射电流更高,并具有1.3 V/cm超低的开启电压;紫外光照对金刚石纳米锥场发射电流有着近两倍的提升。这主要是由于FIB刻蚀有效地实现了sp~2碳/金刚石混合体系的形成。最后,通过FIB辐照技术实现了纳米线的应变加工,并将其作为三维环栅金刚石器件的空间电极连线,初步测试了三维环栅金刚石晶体管的性能。这种三维纳米器件的加工方法具有可控性高、大面积、均匀一致的优点,适用于器件的大面积加工,为应用于未来集成电路和高频大功率场效应管奠定了基础。
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