【摘 要】
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当栅控二极管处于正向小偏压时,与界面或者体陷阱有关的产生-复合(R-G)电流贡献将超过扩散电流成为总电流主要的组成部分.通过对栅偏压的控制,可以激活或者屏蔽R-G电流的贡献
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当栅控二极管处于正向小偏压时,与界面或者体陷阱有关的产生-复合(R-G)电流贡献将超过扩散电流成为总电流主要的组成部分.通过对栅偏压的控制,可以激活或者屏蔽R-G电流的贡献,使得测量得到的二极管电流随着栅偏压的变化呈现明显的峰值,该峰值直接反应了界面陷阱密度的大小.该论文从以上基本理论出发,对利用栅控二极管R-G电流方法表征SOIMOS管界面状况的原理、方法进行了细致的讨论.Dessis的模拟结果和实验结果都证实了该方法的可行性.在此基础上,讨论了器件结构参数和界面参数对R-G电流的影响,并通过敏感性分析的方法对这些参数的影响程度做了细致的研究.
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