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该论文主要内容是关于低温晶化非晶硅薄膜的实验研究.该领域的工作是目前半导体界的热点之一,各种技术路线尚处于研究阶段.论文中目前较常见的几种工艺路线的发展现状做了简要的描述与评价.并介绍了作者采用光热退火技术晶化非晶硅薄膜的研究成果.
光热退火非晶硅薄膜材料低温晶化技术的实验研究
【摘 要】
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该论文主要内容是关于低温晶化非晶硅薄膜的实验研究.该领域的工作是目前半导体界的热点之一,各种技术路线尚处于研究阶段.论文中目前较常见的几种工艺路线的发展现状做了简
【机 构】
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南开大学
【出 处】
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南开大学
【发表日期】
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2000年期
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