近年来,随着光通信技术的发展,光放大技术也得到了迅速的发展。掺铒光波导放大器以其体积小、增益高等优点而成为研究的热点。由于通信带宽的不断展宽,也对掺铒光波导放大器的增益带宽提出了更高的要求。传统的掺铒光波导放大器在1531~1565nm波段的增益谱很不平坦,远远不能达到DWDM以及其他光通信手段的带宽要求。所以,掺铒光波导放大器增益平坦技术应运而生。本文在双程光波导放大器模型的基础之上,提出了在光波导放大器输出端面加镀全介质光学薄膜滤光片来实现EDWA增益平坦的方法。由于薄膜滤光片可以象泵浦光源、调制器等器件一样集成在同一衬底上的单片光波导放大器上,所以该方法较传统增益平坦方法更容易集成、更使器件小型化、并且有更广的适应性。本文分别从膜系设计、监控工艺以及滤光片制作与测试等方面阐述了掺铒光波导放大器增益平坦滤光片的研究和制作过程。在膜系设计方面,本文提出了常规设计方法与遗传退火方法相结合应用的新思路。并将遗传退火算法引入到滤光片膜系的设计之中,实现了兼顾全局寻优和局部求值的设计过程,详细阐述了将该算法应用于膜系设计的方法与过程;在监控工艺的设计上,本文提出了一种通过调整波长来实现非规整膜系的光电极值法监控新方法,阐述了该方法实现监控的原理以及实现方法,对其监控误差进行了分析,并在实际应用中给出了验证;最后完成了器件的制作和测试工作。通过膜系的优化过程,本文在理论上实现了1548~1566nm区域的不平坦度降至;1537~1548nm区域的不平坦度降至;1531~1536nm区域的不平坦度降至;且在1531nm 至1566nm区域增益谱都在以上。后期的工艺实现中,实现了在1531nm~1549nm范围内的增益平坦,其中在1531~1542nm范围内增益不平坦度在;在1542~1549nm范围内实现了增益不平坦度<0.2