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为了弥补镁合金的耐磨性差和耐腐蚀性能不好的特点,进一步促进镁合金的在更多领域中的应用,本文利用电弧离子镀技术,在镁合金衬底上成功制备了不同厚度的TiN薄膜和不同调制周期的Cr/CrN多层膜;通过电弧离子镀沉积Cu过渡层后,采用电镀工艺在镁合金上制备了Ni薄膜;并对这些薄膜的结构和性能进行了研究。采用电弧离子镀的方法可以在镁合金衬底上制备结合力良好的TiN薄膜。该TiN薄膜呈面心立方结构,在（111）晶面具有明显的择优取向;在负偏压为50200V变化时,TiN薄膜的厚度随负偏压值的增加先增加后降低,150V时TiN膜最厚约为8μm;TiN薄膜的硬度与负偏压的关系与厚度相似,也在负偏压为150V时硬度最大2042HV。阳极极化曲线测试表明,TiN薄膜的耐腐蚀性随负偏压的增加而增大,在200V时,耐腐蚀性最好。200V负偏压下的TiN膜表面大颗粒最少,Ti和N的原子比例最接近1,该膜层耐蚀性最好。通过改变N2和Ar气的通入时间比,在镁合金衬底上可以获得不同调制周期的Cr/CrN多层膜。SEM形貌观察显示,沉积的Cr/CrN多层膜具有明显的层状结构,界面清晰。测定的XRD谱表明Cr/CrN多层膜主要由CrN相和少量的Cr和Cr2N相组成;CrN相呈现（220）晶面择优取向。在通入Ar气时间为2min不变的条件下,随N2气的通入时间增加（CrN单层增厚）,Cr/CrN多层膜硬度增加,在Ar气和N2气的通入时间比为2min:8min时的硬度最大2656HV。阳极极化曲线表明,所有Cr/CrN多层膜试样都比未镀层的镁合金试样耐腐蚀性好,随N2气的总通入时间减少（层数增加）,Cr/CrN多层膜耐腐蚀性能呈现逐渐增加的趋势。然而,TiN膜和Cr/CrN多层膜虽能够提高镁合金表面的耐腐蚀性,但提高的幅度不大。在镁合金衬底上以电弧离子镀沉积Cu底层后再电镀金属Ni层,样片的耐蚀性大幅度提高。在镁合金上电弧离子镀沉积Cu过渡层后电镀金属Ni层是提高镁合金耐蚀性十分有效的表面处理方法。