Ni-Mn-Ga-Gd合金薄膜的相变与光学反射特性

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【摘要】

：

本文利用磁控溅射技术在(100)取向单晶硅衬底上沉积了Ni-Mn-Ga-Gd合金薄膜。采用X射线衍射分析、能谱分析、扫描电子显微观察和原子力显微镜表面形貌分析等手段研究了溅射工艺和晶化工艺对Ni-Mn-Ga-Gd合金薄膜相结构、化学成分和表面形貌的影响规律;探明了快速加热冷却环境下的马氏体相变特征,建立了快速加热过程中的相变动力学机制,揭示了表面状态和相结构对薄膜光学反射率的影响规律及其机制。研究

【作者】

：

陆青翠

【机构】

：

哈尔滨工业大学

【发表日期】

：

2008年07期

【关键词】

：

Ni-Mn-Ga-Gd合金晶化马氏体相变光学反射率

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