目前我国同步辐射和X射线自由电子激光的建设成果显著,对高精度光学元件的需求量大大增加。而光学元件的表面质量和面形误差对光学系统整体的稳定性及传输波的波前质量是至关重要的,所以在加工制造亚纳米级精度的X射线反射镜时,对检测测量技术提出了极高的挑战。目前实现高精度平面光学元件面形测量的方法主要为干涉检测,此类干涉测量方法的精度主要受参考镜加工水平的限制,绝对检测方法能够去除参考镜的表面面形误差,实现超高精度光学元件的面形检测。但是X射线光学元件的长度可超过1m,而宽度仅为几厘米,且大部分为长条形平面反射镜,目前众多面形检测的方法都很难直接应用于X射线平面镜的高精度检测。为了实现X射线光学元件的高精度检测,我们针对X射线长条形反射镜的绝对检测技术展开深入研究,主要研究工作如下:首先,通过总结分析各种绝对检测方法的优缺点,发展了基于单次旋转法的矩形平面绝对检测方法,使其适用于X射线平面镜的绝对测量。本文采用四步组合相对干涉测量,将所得面形函数分解为对称项与非对称项,利用绕光轴单次旋转前后的测量数据求出非对称项进而消除,通过计算最终可得矩形平面的绝对表面面形。详细推导了矩形平面绝对检测方法的理论公式,并对其进行仿真分析,结果表明矩形平面面形误差与初始面形的RMS值为1.651×10-4λ（λ=632.8nm）,验证了该方法的有效性。其次,在综合考虑各方面因素后对可能存在的误差进行了仿真分析,重点研究了角度旋转和平面面形精度对测量误差的影响,结果表明平面B面形精度越高,其面形残差可以达到0.104nm。针对不同旋转角度对矩形平面绝对检测法精度的影响,通过理论和仿真分析得到了最优旋转角度90°,减少了旋转和测量次数,优化了测量流程。最后,利用该方法设计和实现了140mm×50mm的矩形平面镜绝对检测实验,同时对测量结果进行闭环自检验,实验结果显示,测量得到的矩形平面镜绝对面形与闭环自检所得面形中心线高度误差小于3.4×10-3λ（λ=632.8nm）,平面C绝对面形与C1、C2绝对面形的面形残差RMS值均在10-3量级,检验结果符合较好,从而验证了矩形平面绝对检测方法的可行性,为同步辐射反射镜的绝对检测提供了重要参考,为高精度光学平面的面形检测提供了一种有效途径和方法。