陶瓷釉面抗菌自洁薄膜的制备工艺和性能研究

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抗菌陶瓷的核心是抗菌剂,目前应用于生产抗菌陶瓷的无机抗菌剂主要是银系和二氧化钛光催化抗菌剂,其主要的负载方式是将抗菌剂添加到陶瓷釉料中烧制成成品或直接涂镀在陶瓷成品的釉层表面形成抗菌膜。本课题采用将载银纳米二氧化钛薄膜镀制在陶瓷釉面的方法制备抗菌自洁陶瓷,重点研究了载银纳米二氧化钛水溶胶的制备工艺和镀膜热处理工艺及它们与釉面薄膜光催化性能和抗菌性能的关系。本研究使用胶溶法制备稳定的载银纳米二氧化钛水溶胶,以溶胶的Zeta电位、透过率及粒径分布为主要表征指标,着重考察溶胶pH值、胶体配制浓度、胶溶剂浓度、制胶温度及载银改性对其分散稳定性的影响,优化了制备工艺条件,并对其在陶瓷釉面基底上的镀膜效果以SEM和EDS进行了表征和测试。研究结果表明:当制胶水浴T=40~80℃,溶胶pH=1.2~2.0时,使用质量分数为5%的稀硝酸或质量分数为3%的稀盐酸胶溶按0.05~0.3mol/L配制的正钛酸前驱体,均能够制备出较稳定的纳米二氧化钛水溶胶;但使用硝酸胶溶的载银溶胶分散稳定性要优于使用盐酸胶溶的载银溶胶。影响二氧化钛薄膜光催化活性和抗菌性能的因素涉及到晶型、粒径和晶体缺陷等,此外还与薄膜厚度、表面结构及所制备的二氧化钛薄膜中是否掺杂有其它组分有关。因此本课题研究,以镀膜后的陶瓷样片对甲基橙的降解率和对大肠杆菌的抗菌率为主要表征指标,辅助以XRD分析,重点考察镀膜层数、热处理温度、热处理时间和银离子掺杂对薄膜光催化性能和抗菌性能的影响。研究结果表明:当热处理温度为350℃,热处理保温时间为2h,镀膜层数为3层,掺杂3%的硝酸银时,能够制备出光催化降解性能和抗菌性能俱佳的载银纳米二氧化钛抗菌自洁薄膜。且该镀膜具有良好的抗菌持久性和基底附着强度的,实际抗菌率可达到71%。
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