本文提供了一种垢处理的新思路,以引起人们对磁处理促进垢生成的科学研究的关注为主要目的。在实验结果和理论分析的基础上总结磁化水促进垢生成的最佳条件,包括磁场强度和处理时间、溶液的温度和浓度等。主要内容包括:①通过国内外文献和实际应用调研磁处理技术,对目前磁化水促进垢生成机理和影响因素进行总结;②定性和定量研究磁化水促进垢生成的条件;③总结磁处理情况下,磁场强度和处理时间、溶液的温度和浓度等因素对结垢的影响。　　 首先,阐述了垢和磁处理技术的研究基础。包括垢的概念、分类及形成过程。描述了本文主要研究对象——析晶污垢形成的诱导期的概念和影响因素。总结了目前常用的化学法和物理法防垢除垢技术,并比较得出了化学法存在的缺点,提出发展物理法的意义。　　 在对磁和磁化相关概念描述的基础上,针对水系统的磁处理技术,阐述了磁处理技术的研究方法和方向,介绍了目前市场上常用的磁处理器的种类和特点,概括其在水系统物理化学性质方面的研究和在垢处理、缓蚀和杀菌方面的实际应用研究。　　 然后,总结了目前磁化水对结垢作用的实验、机理和影响因素。对比介绍了目前磁处理对结垢效果研究的不同实验方法和结论;以磁处理对纯水的影响、对水中离子的影响和水中悬浮颗粒的影响为依据分析了磁处理对结垢的作用机理;提出影响磁化水污垢处理效果的因素,包括磁场特性、水质条件和外界条件。　　 最后,运用静态评价和动态循环评价方法设计了磁处理技术促进垢生成的实验方案。实验分为5大部分,分别研究了反应方法、成垢离子、溶剂性质、磁场强度、磁化时间等因素的作用,并利用正交实验确定了磁致垢的最佳条件。在实验结果的基础上,推测了实验现象的原因,总结了磁场促进污垢生成的机理。　　 本文的主要结论包括磁处理促进垢生成的最佳条件和机理预测两方面。　　 (1)磁处理促进垢生成的最佳条件　　 实验结果表明:①常压沸腾情况下,磁处理对结垢效果的影响与反应方法相关:②结垢效果随着磁化强度的增加具有多变化的特点;③磁化时间对高低不同浓度溶液的结垢效果影响不同;④温度无明显规律,但在40℃左右时,表现出了较好的结垢效果;⑤磁化效果随着浓度的增大逐渐变好,即更能促进垢的生成;⑥正交实验得到了磁致垢最佳条件:磁场强度在2000Gs左右,温度为50℃,磁化时间为45min左右。　　 (2)磁处理促进垢生成的机理推测　　 ①溶液中气体的溶解和逸出会降低系统的平衡性,使溶液更容易受到磁场的作用,水系统的磁化效应更加强烈。因而在常压沸腾情况下,利用脱气法进行磁化实验的CCP溶液垢的生成量更大。　　 ②在钙离子周围会形成巨大的分子缔合物,其与水的笼式结构中孔穴的直径具有很好的适应性,从而形成巨大的介稳定离子,使水的结构和性质发生明显的变化,在磁场的作用下克服一定的活化势垒。因而促进垢生成的磁处理技术中起到主要作用的是钙离子。　　 ③分子间键预先破坏的分子会最先受到弱磁场的作用,而其中含有着一个牢固氢键的分子最容易受到这种作用。氢键是溶液中分子内最强的作用力,只有氢键受到破坏,才会引起溶液内部结构大的变化。所以促进垢生成的场强一般为弱磁场,且存在多极值的特点。