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该文的主要任务就是进行场致阵列阴极的模拟计算,并利用模拟计算的结果进行场致阵列阴极的研制.第一章主要介绍了场致电子发射的特点、应用以及影响场致发射的主要因素,并对场致发射的发射机理进行了探讨.第二章主要介绍了场致阵列阴极模拟计算程序的编制原理.第三章主要对程序的计算结果进行了讨论,并得到了适合于电子发射的栅极开口半径和阴极顶端曲率半径.第四章主要介绍了Spint阴极的制作工艺,这包括清洗、氧化、 光刻、曝光、显影、溅射及刻蚀等工艺.