ZrO<,2>缓冲层和分离膜的制备及其结构与性能研究

来源 :中国科学院上海硅酸盐研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hnzxjl
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采用氧氯化锆(ZrOCl<,2>.8H<,2>O)为前驱体,引入SiO<,2>作为晶相稳定剂,用溶胶--凝胶法分别制备了一种能防止金膜与不锈钢箔之间互扩散的ZrO<,2>高温缓冲层和可用于气体分离的ZrO<,2>分离膜.并通过XPS、AES、DTA-TG、FTIR、HREM及FE-SEM等现代分析手段系统地研究了这两种ZrO<,2>膜的结构、性能和SiO<,2>抑制四方ZrO<,2>相变的机理.根据航天任务的需要成功地研制了一种抗高温互扩散的ZrO<,2>缓冲层,研制了一种高效的ZrO<,2>气体分离膜,为ZrO<,2>气体分离膜的规模化生产奠定了实验基础.在分离膜制备中,通过引入γ-Al<,2>O<,3>作过渡膜,成功地在多孔支撑体上制备出最可几孔径为4~5nm,比表面积为164.9m<'2>/g的ZrO<,2>分离膜.薄膜化学稳定性研究结果表明,这种ZrO<,2>分离膜具有极好的抗酸碱侵蚀能力,可望应用于高温腐蚀性气体的分离,是一种很有发展和应用前景的新型分离膜材料.
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