1、综述了席夫碱、含硫席夫碱以及噻唑和噻吩类杂环席夫碱的合成应用,其中重点介绍了噻唑和噻吩类杂环席夫碱作为荧光分析试剂用于金属离子检测的研究；探讨了荧光猝灭法以及金属离子荧光传感分析法的机理；概述了席夫碱的电化学行为研究；阐述了本文的研究意义及主要内容。2、以两种新颖的噻唑类双席夫碱5-噻唑醛缩乙二胺双席夫碱(A)、5-噻唑醛缩1,2-环己二胺双席夫碱(B)为研究对象,荧光测定发现A和B分别在371nm和429nm处有较强荧光,滴加金属离子对其荧光强度产生一定影响,其中Cu2+对两种化合物的荧光有很强的猝灭作用,且在一定浓度范围内符合Lineweaver-Burk方程,据此建立了Cu2+的荧光检测法；研究发现化合物和金属离子的猝灭过程均属静态猝灭,且结合比均为1：1；化合物A和B的电化学行为测试表明,化合物A和B在电极上均为不可逆的还原过程。3、参照文献制备了2-噻吩醛缩邻苯二胺双席夫碱,并进行了红外光谱表征；荧光测定发现该席夫碱在376nm处有较强荧光,分别滴加Cu2+和Fe3+后,化合物的荧光强度均有明显的猝灭现象,据此建立Cu2+和Fe3+的荧光猝灭检测法；优化了分析条件Cu2+荧光法线性范围1×10-5-5×10-3mol/L,检出限1.67×106mol/L,重现性0.23%,Fe3+荧光法线性范围1×104～8×10-4mol/L,检出限7.65×107mol/L,重现性0.16%；方法线性范围、检出限或重现性亦均好于某些文献(见第三章表3.3)；确定了化合物与金属离子的猝灭过程属静态猝灭,且与金属离子结合比为1：1；电化学行为研究表明,该席夫碱在电极上为一不可逆的还原过程。4、以1μg/mL萘的无水乙醇溶液为标准物质,测定了2-噻吩醛缩邻苯二胺双席夫碱在无水甲醇中的荧光量子产率(Yf约为0.19),结果表明该双席夫碱具有一定的荧光分析应用价值,可进一步研究并改进试剂结构以拓宽其荧光应用领域。