信息时代对器件的微型化、轻量化、集成化的迫切需求，极大地推动了微细加工技术的发展，以微光学、微电子、微机械为基础的MEMS和MOEMS技术己在航空航天、光纤通信、光互联、光计算等高科技诸多领域展现出十分广阔的应用前景，将对本世纪的军事、工业生产、以及人们的生活产生深远影响。目前，微光学元件制作技术主要有传统的二元光学技术、无掩模直写技术和灰度掩模技术三种技术。但源于VLSI的平面光刻工艺用于制作微光学，MEMS, MOEMS器件的三维连续面型受到很大的局限。 快速原型技术是一项新兴的先进制造技术，具有从设计到成品周期短，能够加工任意复杂的三维零件等优点。最具特色和技术相对成熟的“光成型法”SPL，具有与其它工艺方法良好的兼容性，将其应用于微细加工领域，可以充分发挥其具有的众多优点。 基于掩模技术与快速成型技术，本文提出了一种利用空间光调制器－数字微反射镜器件DMD的输出图像等效光刻掩模，通过投影成像系统对光敏材料进行逐层曝光、叠加，最后成型三维实体的微光学器件的制作方法，称之为数字掩模光成型法。并对掩模光成型系统中关键部分进行设计，包括系统光源光路得设计调整，传动系统的设计调整，成型制作中涂层工艺的研究，光敏材料的选择要求等，并通过理论分析和实验结果充分证明了该方法的可行性。 数字掩模光成型法具有低成本、高效率、短周期、可以实现任意三维结构的制作等特点，且加工灵活、自动化，与其他制作技术，如IC等兼容，有利于微光学器件集成技术的发展。这一制作方法的研究为批量制作微光学元件提供了一条有效的新途径，对促进微光学的加工，微细加工以及微光机电系统加工技术的发展有重要意义。