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氧化铟锡(ITO)靶材是一种将锡掺杂进入氧化铟产生的复合氧化物材料,采用磁控溅射法,以ITO靶材为原料制备的ITO薄膜可广泛应用于液晶显示器、薄膜晶体管显示器等光电子领域。目前国内ITO靶材制备技术不够完善,因此研究ITO靶材的制备技术意义重大。本文采用常压烧结法制备ITO靶材,对ITO粉体及靶材制备进行了系统研究。通过加入不同缓冲溶液及分散剂改善粉体性能,在不同烧结温度、升温速率、保温时间及烧结助剂条件下制备ITO靶材,以优化制备工艺。采用TEM、XRD、BET、SEM、TG-DTA等分析仪器,对