外源等离子体溅射Mg2Si薄膜以及光电性能的研究

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【摘要】

：

Mg2Si是一种具有间接带隙的半导体材料,其原料贮备丰富,且环境友好,极富应用前景。它的吸收带边位于0.74 eV左右(波长约1600 nm),在1.3μm左右光吸收系数高达104/cmm,比晶硅材料高一两个数量级,因此仅几百纳米的厚度就可以实现对太阳光近红外波段的充分吸收。那么本课题的实施,将为薄膜太阳电池的发展奠定坚实的理论与实验基础,为我国自主研发低成本、可持续、环境友好的薄膜电池开辟一条崭

【作者】

：

张静文

【机构】

：

郑州大学

【发表日期】

：

2015年05期

【关键词】

：

等离子体溅射 Mg2Si薄膜沉积速率热处理光电性能

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