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本文介绍了DLC膜的不同制备方法和原理，总结了DLC膜的光学、力学、电学等性能及其在国内外相关领域内的应用情况，并指出了目前在实际应用中存在的问题。通过对膜系设计基本理论和设计方法的阐述，从理论上推导了在光学基片上获得单层增透DLC膜所需要的条件。进一步分析了射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)沉积DLC膜的机理，并结合FJL600型镀膜机的工作原理及特点，分析了使用该设备进行DLC膜沉积时一些重要工艺参数对膜性能的影响。