【摘 要】
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该文主要采用电化学方法进行合成(类)金刚石薄膜的尝试,通过实验表明采用电化学淀积法在一定的制备工艺条件下选择合适的源物质溶液(该实验采用分析纯的甲醇,DMF,乙腈)在不同
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该文主要采用电化学方法进行合成(类)金刚石薄膜的尝试,通过实验表明采用电化学淀积法在一定的制备工艺条件下选择合适的源物质溶液(该实验采用分析纯的甲醇,DMF,乙腈)在不同的基片上(硅片,导电玻璃片,铝片),可以在液相中获得类金刚石薄膜.基片温度一般在60℃以下.研究表明,反应介质的分子结构以及介电常数等物理性能,衬底材料的化学物理性能和表面状态都对沉积反应产生了影响.作者在以DMF为源溶液以导电玻璃片为基底的沉积膜的Raman测试中第一次探测到了1335cm<-1> 处的较强的峰,该峰已非常接近金刚石的特征Raman峰,表明沉积膜中含有一定的金刚石相,当然与之同时出现的1580cm<-1>处的峰表明膜中依然存有一定的石墨相. 该结果表明液相中合成金刚石相是可能的.在实验的基础上该文对电化学淀积法制备类金刚石薄膜的反应机理进行了初步的探讨.
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