光敏保护基（Photosensitive protecting groups,PPGs）是一类光不稳定化合物,可以通过共价键对活性功能分子进行“笼锁”后得到失活的前体。然后经光照激发产生光化学反应重新释放出活性的功能分子。光敏保护基以非接触、非破坏性的光为刺激因子,因此在生物医药中的研究中具有非常好的应用前景。但是传统的光敏保护基的光激发波长一般都位于紫外光区,而紫外光在生物体系中穿透性太低且长时间的照射会产生光毒性,导致光敏保护基的应用受到了限制。因此,对光敏保护基进行结构改造,发展可以被长波长光激发的光敏保护基对于生物体系的研究具有重要的实践意义。本论文在文献调研的基础上提出了对香豆素光敏保护基进行结构改造策略。香豆素光敏保护基的最大吸收波长靠近可见光区,具有良好的生物兼容性及光降解量子产率。为了推动香豆素激发波长的进一步红移使它可以被长波长光激发,论文将芴引入香豆素结构中,制备出一系列新型的茚并香豆素光敏保护基:1.以芴为原料,通过多步反应制备出含二乙氨基的茚并香豆素光敏保护基A。系统研究了A与商品化的7-二乙氨基-4-甲基香豆素光敏保护基（DEACM）的光学性质差异,结果发现当用365nm光激发时,基于DEACM的取代苯甲酸前体的光降解效率优于A;当用405nm光激发时,降解效率取决于苯甲酸的p Ka值,保护基A对p Ka较小的对氯苯甲酸（4.03）和对氰基苯甲酸（3.55）的降解率优于DEACM;当用465nm可见光激发时,保护基A显现了对取代苯甲酸的高降解效率（最高达到96.03%）,而DEACM则完全失去降解活性。研究结果证实了我们设计的茚并香豆素光敏保护基A相比DEACM有更好的长波长光响应性,非常有利于生物体系中的应用研究。2.以9,9-二甲基芴为起始原料合成出五种新型的具有D-π-A和A-π-A延长共轭结构的茚并香豆素光敏保护基B-F。然后以取代苯甲酸为模板分子对其中的四种保护基的光化学性质进行了表征,研究结果发现有D-π-A结构的保护基的光降解效率明显高于A-π-A结构的光敏保护基,说明推-拉电子结构更有利于这类稠环香豆素光敏保护基的光降解,研究结果为设计新型的稠环香豆素类光敏保护基提供了参考。