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染整业在染整过程中会排放大量高污染且不易处理的工业废水，其普遍特性为色度高、有机物含量高、水温高、高悬浮固体物、强酸性或强碱性以及少量有毒物质与重金属等。由于产品为批次式生产且原料及产品种类繁多，因此产生的废水水质特性也不稳定，处理难度较高。若未经妥善处理直接排放至河川水体，对河川生态影响甚大。本次研究评估了H2O2/UV高级氧化处理技术对印染废水中分子量分布的影响。研究以反应性偶氮染料Evercion Red H-E3B与聚乙烯醇(PVA)分别模拟印染废水中的色度与DOC，将人工印染废水分为三种水样：A水样：人工印染废水(DOC=57.1mg/L)、B水样：混凝后人工印染废水(DOC=38.3mg/L)、C水样：人工印染废水(DOC=38.3mg/L)，另D水样为实厂染整放流水，DOC为26.2mg/L。对于每个水样，在整个处理过程中保持溶液的pH值为4，并以UV光照强度、氧化时间、H2O2加药量为操作变量，分析DOC、色度、H2O2残留量及分子量变化，比较H2O2/UV高级氧化处理技术对三种水样中DOC的矿化效率、反应动力学原理及所需消耗的电能，然后再对实厂染整放流水进行H2O2/UV高级氧化处理，同时考察其处理效果。所有实验用批次式H2O2/UV光反应槽。研究结果显示，在适当的H2O2剂量及光照强度下均可将四种水样DOC及色度完全去除，DOC矿化及H2O2反应速率常数分别为KD及KH，两者均随H2O2加药量及UV光照强度增加而上升，但在过高H2O2剂量下，KD及KH反而下降。另外，随着H2O2加药量增加，所需电能随着下降，但超过最适H2O2加药量时所需电能消耗反而上升，四种水样在相同H2O2剂量下去除1KgDOC所需电能大小依次为A水样>C水样>D水样>B水样。H2O2/UV高级氧化处理技术可大幅降低废水中大分子量有机物的含量，且可使小分子量有机物矿化成CO2及H2O。若将废水先经混凝处理，再结合H2O2/UV高级氧化处理技术既可减少昂贵的H2O2剂量又可减少氧化时间节省光照所需的电费。