喷射电沉积制备多层膜装置设计及试验研究

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喷射电沉积是电化学沉积的方式之一,其具有结晶细致、选择性沉积、极限电流密度大以及沉积效率高等诸多优点,合理控制电流密度及沉积时间从理论上即可制备出纳米多层膜。结合喷射电沉积技术,本文成功地设计出能制备调制波长为十几到几百纳米的多层膜(理论上可以达到几纳米)的试验装置,且在大量工艺试验基础之上对Cu/Co多层膜的部分性能进行了研究。完成的主要工作及研究内容如下:(1)设计并构建了制备Cu/Co多层膜的试验装置,完成了运动及控制系统的设计,解决了两种电镀液交叉污染以及电镀液温度范围的精确控制等问题,能精确、平稳地控制平动速度、电镀液的入口流量以保证沉积层厚度均匀、可控,采用该装置成功地制备出调制波长可控的Cu/Co多层膜;(2)采用Fluent软件对不同距离和喷嘴入口流速(流量)下喷嘴的流场进行了仿真,发现低速区的宽度随距离的增加而增大,随流量增加呈先增后减趋势(Q=194L/h时,低速区宽度最小),仿真结果很好地反映了沉积中的实际情况,为后续喷嘴的优化设计及试验参数的选择提供了依据;(3)对Cu/Co多层膜的层结构采用SEM表征,可直观地看出两种金属交替沉积的层状结构;对表面进行了SEM观测掌握了微观形貌及表面粗糙度与工艺参数之间的关系;在质量分数为3.5%的NaCl溶液中进行了耐腐蚀性检测,发现多层膜的耐腐蚀性明显优于纯铜和纯钴;当调制波长为27.2nm时,Cu/Co多层膜的硬度达到最大值591HV,远高于纯铜和纯钴的硬度。
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